HICON罩退火炉，适用于电容铝箔

用于电子行业的铝箔往往具有较高的质量要求。只有高纯铝才能用于生产制造高压电极铝箔。

铝箔的纯度主要取决于操作电压。AI3N8主要用于低压应用，而AI4N(AI 99.99 %)则用于高压方面。

热处理过程采用极纯的保护气氛，目的在于在铝箔表面获得完全一致的氧化铝层，并促进后续工艺中的隧道型腐蚀。材料在550°C和620°C之间的退火温度下进行处理，气氛露点必须低于-30°C。

为了满足这些严格的标准，退火必须在炉内进行，且炉内配备气密和真空密封的蒸馏器。HICON 罩式退火炉是该应用的最优之选。